武漢安德熱處理設(shè)備有限公司專業(yè)從事離子滲氮、滲碳設(shè)備制造及工藝開發(fā)，我司工程師有30余年的實(shí)際工作經(jīng)驗(yàn)，對(duì)超長(zhǎng)、超大及復(fù)雜工件離子滲氮處理有獨(dú)特的心得。在離子滲氮、滲碳設(shè)備日趨成熟的今天，武漢安德始終在努力提高設(shè)備及工藝技術(shù)的同時(shí)，兼顧了顧客的滿意度及服務(wù)，同時(shí)提升設(shè)備的可靠性及工藝的穩(wěn)定及規(guī)范。

　　武漢安德始終堅(jiān)持向用戶提供好的適用的設(shè)備，安德的離子滲氮設(shè)備涉及直流、脈沖、直流及脈沖兩用及帶輔助加熱型,帶電腦全自動(dòng)控制設(shè)備，為用戶提供多種選擇;安德以誠(chéng)摯對(duì)待用戶，以用戶滿意求得心安。

　　離子滲氮包括離子滲氮﹑離子氮碳共滲(軟氮化)，可以顯著提高鋼鐵零件表面硬度;顯著提高耐磨損﹑耐疲勞及耐腐蝕等性能;離子滲氮工藝由于其節(jié)能﹑省氣﹑效率高﹑質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)，在動(dòng)力﹑機(jī)床﹑石化機(jī)械、輕紡機(jī)械、模具等行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。

　　安德設(shè)備

　　1. LD直流離子滲氮設(shè)備

　　直流為傳統(tǒng)離子滲氮設(shè)備，適用于大部分工件;由于其在工藝上的特點(diǎn)，在脈沖設(shè)備流行的今天，直流依然被廣泛使用。

　　2. LDMC脈沖離子滲氮設(shè)備

　　脈沖打弧迅速，滲速較快，工作氣壓可調(diào)幅度大，較直流節(jié)能大致在2/10-3/10，適用于表面要求高、孔槽多而復(fù)雜的工件;為現(xiàn)在常用的離子滲氮設(shè)備。

　　3. ZM直流脈沖兩用滲氮設(shè)備

　　兼顧直流、脈沖各自特點(diǎn)的滲氮設(shè)備。

　　4. LDF、LDMCF、ZMF輔助加熱離子滲氮設(shè)備

　　輔助加熱離子滲氮設(shè)備，是在直流、脈沖或直流脈沖兩用設(shè)備中增加電阻輔助加熱，其操作簡(jiǎn)單可靠，適用于大部分工件，尤其適用于輕薄零件。 5. LDZD、LDMCZD、ZMZD全自動(dòng)離子滲氮設(shè)備

　　全自動(dòng)離子滲氮設(shè)備，是在直流、脈沖或直流脈沖兩用設(shè)備中增加電腦全自動(dòng)控制，其操作全部由電腦完成，控溫控壓準(zhǔn)確,全過(guò)程監(jiān)控記錄，適用于大批量,重復(fù)生產(chǎn)零件。

　　6. 離子滲碳設(shè)備

　　離子滲碳具有滲速快(0.8mm/2小時(shí))，滲層質(zhì)量好的特點(diǎn)，為新型滲碳設(shè)備。

　　7. 離子滲碳淬火設(shè)備

　　具備離子滲碳及真空淬火功能。

　　安德設(shè)備特點(diǎn)

　　安德在離子氮化設(shè)備及工藝方面積累了大量的經(jīng)驗(yàn)，注重于設(shè)備的可靠性，穩(wěn)定性和先進(jìn)性。設(shè)備主要有以下技術(shù)特點(diǎn)：

　　1.真空爐體制造增加時(shí)效工序，長(zhǎng)期保證真空密封要求。

　　2.保護(hù)截止電路特殊設(shè)計(jì)，即使陰陽(yáng)極短路，也不損壞設(shè)備和爐內(nèi)零件。

　　3.電源的電力電子元件采用進(jìn)口模塊，線路簡(jiǎn)單規(guī)范，質(zhì)量可靠。

　　4.操作按鈕互相設(shè)有保護(hù)，即使操作失誤，也不會(huì)損壞設(shè)備。

　　5.動(dòng)作控制采用固化電路，大大提高可靠性。

　　6.穩(wěn)定完善的自動(dòng)控制系統(tǒng),保證工藝的重復(fù)性及零件的合格率